อุปกรณ์ PVD Arc DC พัลส์ความถี่สูง E-PAC600

Product Introduction

สำรวจระบบ PVD arc DC pulsed สำหรับ E-PAC ของเรา ซึ่งออกแบบมาสำหรับเคลือบอุปกรณ์มีความยึดเกาะสูง การเจาะรูที่มีประสิทธิภาพ และฟิล์มที่ไม่มีอนุภาคขนาดใหญ่

ในภาคอุตสาหกรรมการผลิตที่มีความเครียดสูง เช่น การสแตมป์ความเที่ยงตรง การก่อท형โลหะ และการบิดคอมพิวเตอร์ตัวควบคุมอัตราเร็วสูง เครื่องมือและแม่พิมพ์ถูกทดลองกับการสึกหรอแบบสติ๊กเกอร์รุนแรง การเสียดสีภาระหนัก และการช็อกความร้อนอย่างต่อเนื่อง การบำรุงรักษาระดับมาตรฐานมักพยายามที่จะให้การป้องกันที่เพียงพอ ทำให้เกิดการเปลี่ยนเครื่องมือบ่อยๆ และการหยุดไลน์ที่มีค่าใช้จ่ายสูง

เราเสนออุปกรณ์ PVD Arc DC สะท้อนอัตราเร็วสูง E-PAC ในฐานะแพลตฟอร์มการฝังไอออนทางกายภาพชั้นนำของเรา ระบบ E-PAC รวมเทคโนโลยี arc cathodic ขั้นสูงกับการควบคุมพลังงานสะท้อนอัตราเร็วสูง ระบบนี้ส่งมอบชั้น покрытияบางๆ ที่แข็งแกร่ง超乎寻常 มีความหนาแน่นสูง และสม่ำเสมออย่างสมบูรณ์ ซึ่งขยายอายุการใช้งานของเครื่องมือและแม่พิมพ์หลายเท่า

1. หลักการทางกายภาพของชั้น покрытия PVD

Physical Vapor Deposition (PVD) เป็นเทคโนโลยี покрытияสุญญากาศที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม ซึ่งปรับเปลี่ยนพื้นผิวโลหะในระดับอะตอม กระบวนการทำงานผ่านสามขั้นตอนที่ควบคุมอย่างเข้มงวดภายในสภาพแวดล้อมสุญญากาศ:

การระเหย (01. การก๊าซ): แหล่งพลังงานไฟฟ้า หรือความร้อนที่มีพลังงานสูงทำให้บล็อกเป้าหมายที่เป็นของแข็ง (เช่น ทิทาเนียมหรือโครเมียม) ระเหย แปลงวัสดุแข็งเป็นอะตอมและไอออนก๊าซที่มี活性สูง
การขนส่ง (02. การส่งต่อ): ไอออนและอะตอมโลหะที่ระเหยนี้เดินทางอย่างรวดเร็วทะลุห้องสุญญากาศจากแหล่งเป้าหมายไปสู่ส่วนประกอบเป้าหมาย
การฝัง (03. การควบแน่น): เมื่อไอออนถึงพื้นผิวชิ้นงาน พวกมันจะผ่านการดูดซับ การควบแน่น และการ nucleation อะตอมจะล็อก ontoโลหะฐาน สร้างชั้นฟิล์มบางๆ ที่มีโครงสร้างหนาแน่น สม่ำเสมอ และมีโครงสร้างสูง

2. การเลือกวิธีการ PVD ที่เหมาะสม

เป้าหมายการผลิตที่แตกต่างกันต้องการเทคนิคการ покрытияสุญญากาศที่แตกต่างกัน

การระเหยสุญญากาศ: ละลายวัสดุเป้าหมายโดยใช้ความร้อนทางความร้อน แม้ว่ามันจะให้อัตราการฝังสูงและเครื่องจักรที่ง่าย แต่แรงยึดเกาะค่อนข้างอ่อน ทำให้ไม่เหมาะสำหรับเครื่องมืออุตสาหกรรมที่มีภาระหนัก
การสเปตเตอร์สุญญากาศ: ทำให้อะตอมหลุดจากเป้าหมายโดยใช้การบังคับดันไอออนก๊าซ มันสร้างฟิล์มที่สม่ำเสมอสูง แต่อัตราการฝังโดยทั่วไปต่ำกว่า
การช镀ไอออน arc cathodic (มาตรฐาน E-PAC): ใช้ arc ไฟฟ้าที่มีความเข้มข้นสูงเพื่อระเหยและทำให้ไอออนวัสดุเป้าหมาย เนื่องจากอัตราการไอออนสูงยอดเยี่ยม อนุภาคที่ระเหยมีพลังงานสูง ส่งผลให้ความหนาแน่นของชั้น покрытияที่เหนือกว่าและแรงยึดเกาะที่ไม่มีใครเทียบได้ นี้ทำให้มันเป็นตัวเลือกชั้นนำสำหรับชั้น покрытияเครื่องมือที่ทนสึกหรอ
Magnetron Sputtering & High-Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS): ใช้สนามแม่เหล็กหรือพัลส์พลังงานสูงเพื่อแนะนำเส้นทางอิเล็กตรอน สร้างชั้น покрытияขนาดนาโนที่ไม่มีข้อบกพร่องสำหรับอิเล็กทรอนิกส์และ-optic ชั้นสูง

3. ความแข็งแกร่งทางเทคนิคหลักของซีรีส์ E-PAC

โดยการรวมพลังงาน DC สะท้อนอัตราเร็วสูงกับการออกแบบแหล่ง arc cathodic ที่เป็นกรรมสิทธิ์ของเรา ระบบ E-PAC เอาชนะข้อจำกัดในอดีตของการช镀 arc ดั้งเดิม ระบบส่งมอบข้อดีในการทำงานหลักสี่ประการ:

ประสิทธิภาพฟิล์มสุดขั้ว

ระบบ E-PAC ฝังชั้น покрытияที่มีความแข็งแกร่งของพื้นผิวที่เกิน 2000 HV ได้ง่าย (และสูงถึง 3300 HV ขึ้นอยู่กับสูตรเป้าหมาย) ฟิล์มนี้รักษาcoefficient การเสียดสีต่ำมากและความเสถียรทางเคมีที่เหนือกว่า ลดการสึกหรอของพื้นผิวอย่างมากภายใต้ภาระกลไกหนัก

การยึดเกาะที่เป็นผู้นำในอุตสาหกรรม

ใช้การบังคับดันไอออนพลังงานสูงระหว่างวัฏจักรการทำความสะอาดเริ่มต้น ระบบลบออกไซด์ขนาดเล็กจนกลายเป็นจุดที่ล็อกระดับอะตอมที่สมบูรณ์ระหว่างชั้น покрытияและโลหะฐาน นี้ป้องกันการปะลอก การแตก และการแยกชั้นระหว่างการตัดอัตราเร็วสูงหรือการสแตมป์ด้วยความดันสูง

การผลิตสีเขียวที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม

วัฏจักร PVD ทั้งหมดทำงานในห้องสุญญากาศที่สะอาดและปิดสนิท กระบวนการไม่ต้องการอ่างเคมีอันตรายโลหะหนัก หรือสารตัวทำละลายที่เป็นอันตราย ไม่ผลิตน้ำเสียและก๊าซอันตรายใดๆ มันสอดคล้องกับมาตรฐานสิ่งแวดล้อมและความปลอดภัยระหว่างประเทศอย่างเต็มที่

ความเข้ากันได้ของวัสดุที่กว้างขวาง

สูตรการฝังที่อุณหภูมิต่ำของเราได้ป้องกันวัสดุรองรับหลากหลายระบบสามารถ покрытияโลหะผสม คาร์ไบด์ เซรามิก แก้วอุตสาหกรรม และแม้แต่พลาสติกอุณหภูมิสูงพิเศษได้อย่างปลอดภัยโดยไม่ทำให้เกิดการบิดหรือความเสียหายในโครงสร้าง

4. การบูรณาการฮาร์ดแวร์ & ข้อกำหนด

การวางแผนทางกายภาพของตู้ E-PAC ได้รับการออกแบบเพื่อประสิทธิภาพพื้นที่สูงสุดและการทำงานรายวันที่แข็งแกร่ง ระบบรวมโมดูลฮาร์ดแวร์ขั้นสูงหลายอย่าง:

การทำลายไอออนแหล่งพลังงานสูง: ใช้แหล่งไอออนขั้นสูงเพื่อเพิ่มการทำความสะอาดและการเปิดใช้งานพื้นผิวขั้นสูงสุด ขั้นตอนนี้สร้างความขรุขระขนาดเล็กจนกลายเป็นรากฐานที่สมบูรณ์สำหรับชั้น покрытияถัดไป
เทคโนโลยีลดมอนูเมนต์: ในอดีต ระบบ arc cathodic ได้รับผลกระทบจากข้อบกพร่อง "หยด" หรือ "มอนูเมนต์" ซึ่งสร้างพื้นผิวที่ขรุขระ ระบบ E-PAC ใช้แหล่งจ่ายพลังงานสะท้อนอัตราเร็วสูงกรรมสิทธิ์เพื่อระงับการปล่อย arc ทันที ลดหยดได้ถึง 80% เพื่อส่งมอบสีผิวที่เรียบง่ายและเหมือนกระจก
แหล่งจ่ายพลังงานรวม DC/Arc สะท้อน: เครื่องกำเนิดอัตราเร็วสูงกรรมสิทธิ์ที่ช่วยให้ควบคุมพลังงานการฝังได้อย่างแม่นยำ เพิ่มการใช้งานวัสดุเป้าหมายและความหนาแน่นของชั้น покрытия

พารามิเตอร์อุปกรณ์หลัก

พื้นที่ทำงานที่มีประสิทธิภาพ: เส้นผ่านศูนย์กลาง 750 มม. ความสูง 600 มม. (ออกแบบเพื่อรองรับชุดมิลลิ่งคัทเตอร์ ฮ็อบ และแม่พิมพ์สแตมป์จำนวนมากในวัฏจักรเดียว)
ความจุในการโหลดสูงสุด: 1 ตัน (1000 กก.) รองรับโดยคาร์ตูนฟิกเซอร์หมุนแบบหนักและแข็งแกร่ง
ระบบควบคุมพลังงาน: การออกแบบแบบตู้ที่บูรณาการอย่างเต็มที่ ซึ่งทำงานด้วยซอฟต์แวร์ DLV-Control ที่เป็นกรรมสิทธิ์ของเราเพื่อการดำเนินการกระบวนการอัตโนมัติและการบันทึกพารามิเตอร์

5. การประยุกต์ใช้งานในอุตสาหกรรม

ระบบ E-PAC Cathodic Arc PVD เป็นเครื่องผลิตที่เหมาะสำหรับร้านงานและโรงงานการผลิตที่มีผลผลิตสูง:

แม่พิมพ์สแตมป์และโค้งความเที่ยงตรง: ป้องกันการติดโลหะ-ถึง-โลหะและการสึกหรอแบบเลื่อนไถลบนแม่พิมพ์ก่อท형แผงรถยนต์
เครื่องมือตัดประสิทธิภาพสูง: ป้องกัน end mill CNC เท้า แทป และ gear hob จากการสะสมความร้อนและการแตกขอบ
แม่พิมพ์ดี-คาสติ้ง: ป้องกันแม่พิมพ์ดี-คาสติ้งอะลูมิเนียมและสังกะสีจากการกัดเซาะโลหะหลอมและการแตกจากความร้อน
ส่วนประกอบเลื่อนความเที่ยงตรง: ลดการสึกหรอจากการเสียดสีบนลูกสูบหนัก วาล์วไฮดรอลิก และแกนเกียร์อุตสาหกรรม

ผลิตภัณฑ์แนะนำ

อุปกรณ์ PVD / PACVD (DLC) การสเปตเตอร์พัลส์ความถี่สูง E-ACT800

ค้นพบระบบ E-ACT ของ Juchuang ระบบที่ออกแบบมาเพื่อชั้น DLC ที่มีความยึดเกาะสูง ความเสียดทานต่ำสุด และความต้านทานการสึกหรอสำหรับแม่พิมพ์และส่วนประกอบที่มีความแม่นยำ

ปุ่ม